電子デバイス研究会

〔委 員 長〕 四戸 孝(東芝)
〔副委員長〕 大見俊一郎(東京工業大学)
〔幹  事〕 九鬼孝夫(日本放送協会),清水達雄(東芝)
 
 
日 時 2011年3月1日(火) 14:00〜17:15
    2011年3月2日(水) 8:30〜12:20
場 所 水上保養所「紫明荘」(群馬県利根郡みなかみ町湯檜曽15-1,JR上越線湯檜曽駅下車,1~2分または上越線水上駅下車,谷川ロープウェー行きバス10分,湯檜曽駅前下車,上越新幹線上毛高原駅下車,リレーバスにて水上駅下車(水上駅からは谷川ロープウェー行きのバスと同様 http://www.hoyojo.nttkikinkenpo.or.jp/cgi-bin/info/main.cgi?SID=8014)
協 賛 グリーンITにおける化合物半導体電子デバイス調査専門委員会(委員長 宮本恭幸,幹事 岡  徹,横山春喜,幹事補佐 若林 整)
議 題 テーマ「グリーンITにおける電子デバイス」

 

(水上保養所「紫明荘」) 3月1日(火) 14:00〜17:15 テーマ「グリーンITにおける電子デバイス」
座長 横山春喜(NTTフォトニクス研究所)
 
EDD-11-035 単一原子ドーピング法と離散的ドーパントデバイス評価
○品田賢宏,堀 匡寛,平 圭吾,小松原彰(早稲田大学),小野行徳(日本電信電話),谷井孝至(早稲田大学),遠藤哲郎(東北大学),大泊 巌(早稲田大学)
 
EDD-11-036 デュアルシリサイドを用いた低直列抵抗CMOSソース/ドレイン電極形成技術
◎黒田理人,田中宏明,中尾幸久,寺本章伸,宮本直人,須川成利,大見忠弘(東北大学)
 
EDD-11-037 22nmノード以降のCMOSに向けた低抵抗かつ均質なNiPtシリサイド膜の低温マイクロ波アニールによる形成
◎山口 直,川崎洋司,山下朋弘,山本芳樹,後藤洋太郎,土本淳一,工藤修一,前川和義,藤澤雅彦,浅井孝祐(ルネサスエレクトロニクス)
 
EDD-11-038 GaN, SiCパワーデバイスの車載応用
○兼近将一,上杉 勉,加地 徹(豊田中央研究所)
 
EDD-11-039 Alイオン注入4H-SiCプレーナ接合における最適ガードリング間隔に関する検討
○望月和浩,沖野泰之,亀代典史,横山夏樹(技術研究組合 次世代パワーエレクトロニクス研究開発機構,株式会社 日立製作所)
 
EDD-11-040 Si基板上にMOCVD成長したInGaN/GaN MQW構造太陽電池
○渡邉則之,横山春喜,重川直輝(日本電信電話),杉田憲一,山本あき勇(福井大学)
 
EDD-11-041 自己整合型ノーマリーオフGaN MISFET
◎田口真也,長谷川一也,野本一貴,中村 徹(法政大学)
 
(水上保養所「紫明荘」) 3月2日(水) 8:30〜12:20 テーマ「グリーンITにおける電子デバイス」
座長 横山春喜(NTTフォトニクス研究所)
 
EDD-11-042 L帯~W帯GaN高出力増幅器技術
○松永高治(日本電気)
 
EDD-11-043 ECRスパッタSiNの膜質がSiN/AlGaN/GaN MIS-HFET特性に与える影響
○脇 英司,深澤義道,伏見 浩(新日本無線),江川孝志(名古屋工業大学)
 
EDD-11-044 〔欠番〕
 
EDD-11-045 耐圧ブースト技術によるSi基板上GaNトランジスタの高耐圧化
◎梅田英和,鈴木朝実良,按田義治,石田昌宏,上田哲三(パナソニック株式会社),田中 毅(パナソニック),上田大助(パナソニック株式会社)
 
EDD-11-046 4族系非シリコンFETの可能性と課題 -ゲルマニウムとグラフェンの場合 -
○鳥海 明(東京大学)
 
EDD-11-047 InP系HEMTの低雑音化とミリ波応用
○原 直紀,高橋 剛,牧山剛三,中舍安宏(富士通、富士通研究所)
 
EDD-11-048 縦型InGaAs MISFETのソース寄生容量削減
◎松本 豊,齋藤尚史,宮本恭幸(東京工業大学)
 
EDD-11-049 76GHz帯車載レーダー用低雑音高信頼性InP/GaAsSb DHBT
○金谷 康,天清宗山,渡辺伸介,山本佳嗣,小坂尚希,宮國晋一,後藤清毅,島 顕洋(三菱電機)
 

 

特別講演45分、招待講演30分、一般講演20分(全講演質疑応答5分含む)
1日(火)の研究会終了後、懇親会を開催いたします。奮ってご参加下さい。